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  • GMD2000/4吡喹酮混懸液研磨分散機
    吡喹酮混懸液研磨分散機

    吡喹酮混懸液研磨分散機運行原理: 混懸液研磨分散機在電動機的高速轉(zhuǎn)動下物料從進口處直接進入混懸液破碎區(qū),通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎區(qū),在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。

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  • GMD2000/4頭孢克洛混懸液研磨分散機
    頭孢克洛混懸液研磨分散機

    GMD2000系列頭孢克洛混懸液研磨分散機具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑微米級0.2-2μm,可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。德國進口分散乳化機由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

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