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  • GMD2000光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)
    光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)

    光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計,將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,膠體磨磨頭+分散盤定轉(zhuǎn)子,先研磨后分散效果更佳。

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  • GMD2000藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機(jī)
    藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機(jī)

    藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機(jī)透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、均質(zhì)和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

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  • GMD2000水性防腐劑高速分散機(jī)
    水性防腐劑高速分散機(jī)

    水性防腐劑高速分散機(jī)能在真空或壓力環(huán)境下,實(shí)現(xiàn)物料的分散、乳化、均質(zhì)、混合等工藝過程。

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  • GMD2000石墨烯潤滑油高剪切分散機(jī)
    石墨烯潤滑油高剪切分散機(jī)

    石墨烯潤滑油高剪切分散機(jī)具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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  • GMD2000橡膠抗氧劑高速乳化分散機(jī)
    橡膠抗氧劑高速乳化分散機(jī)

    橡膠抗氧劑高速乳化分散機(jī)機(jī)配合橡膠抗氧劑的生產(chǎn):將原始粒徑15-30nm的抗氧劑顆粒倒入一定配比的去離子水中,加入表面活性劑和組分A,攪拌10min至物料全部均勻無大的團(tuán)聚顆粒,將配好的液體倒入分散機(jī)中,打4-6遍,即可得到D50粒徑約300nm的均勻水性抗氧劑。

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  • GMD2000蛋白質(zhì)高速分散機(jī)
    蛋白質(zhì)高速分散機(jī)

    蛋白質(zhì)高速分散機(jī)可在實(shí)驗(yàn)室高速馬達(dá),可選配不銹鋼帶夾套工作腔或玻璃工作腔。*的定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu),產(chǎn)生*的剪切力,迅速減小液滴尺寸,處理物料更精細(xì)、更均勻。

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  • GMD2000納米氧化鎂均質(zhì)分散機(jī)
    納米氧化鎂均質(zhì)分散機(jī)

    納米氧化鎂均質(zhì)分散機(jī)可在實(shí)驗(yàn)室模擬在線工況進(jìn)行循環(huán)或在線連續(xù)處理,具有高效均質(zhì)無分散死角等特點(diǎn)。

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  • GMD2000石墨烯涂層漿料高剪切分散機(jī)
    石墨烯涂層漿料高剪切分散機(jī)

    石墨烯涂層漿料高剪切分散機(jī)的線速度達(dá)21M/S,由3級可調(diào)間隙的錐形定子和4級高速旋轉(zhuǎn)的錐形轉(zhuǎn)子形成研磨模塊,根據(jù)生產(chǎn)要求,剪切研磨間隙可從0.01mm至2mm無級調(diào)速,定轉(zhuǎn)子每一級上的凹槽一級比一級精細(xì),深度,方向的不同增加了流體的揣流。

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